오염1 IR 센서 공정이 일반 CMOS 팹에서 오염 소스로 간주되는 이유는? IR 센서, 특히 비냉각식 마이크로볼로미터 기반 적외선 센서는 다양한 산업에서 활용되며 수요가 빠르게 늘고 있습니다. 하지만, 이 IR 센서 공정은 일반적인 **CMOS 반도체 생산 라인(Fab)**에서 함께 제조되기 어려운 구조적 문제를 가지고 있어, 많은 기술자들과 연구자들이 이 궁금증을 공유하고 있습니다.오늘은 제가 IR 센서와 CMOS 공정을 공부하면서 느꼈던 의문점, 그리고 전문가들과의 대화를 통해 정리한 내용을 바탕으로 **왜 IR 센서 공정이 일반 팹에 오염을 유발하는가?**에 대해 정리해 보겠습니다.IR 센서 공정의 핵심 재료는 CMOS 공정과 충돌한다IR 센서는 일반적으로 VOx(바나듐 옥사이드), MCT(수은 카드뮴 텔루라이드), 또는 a-Si(비정질 실리콘) 같은 재료를 사용합니다.여.. 2025. 5. 17. 이전 1 다음
